Un fluide de nettoyage conçu pour éliminer les particules submicroniques Le fluide a été mis au point pour éliminer les particules submicroniques des surfaces et des substrats solides. Il est utilisé dans une grande variété d’industries, y compris l’électronique, le nettoyage de capteurs et d’optiques, l’impression 3D et le nettoyage de semi-conducteurs. Il peut être utilisé dans de nombreuses applications, notamment : Séchage par absorption Élimination des particules Nettoyage des empreintes digitales Élimination des ions Dans ces applications, l’enjeu consiste à éliminer les particules sans endommager la surface sur laquelle elles reposent. Le choix des ingénieurs en conception et en contrôle qualité s’est porté ce produit pour sa capacité à éliminer les particules submicroniques, car il nettoie efficacement les surfaces sensibles sans laisser de résidus. Caractéristiques et avantages C'est un fluide durable à base d’hydrofluorooléfines (HFO) qui nettoie les composants critiques avec délicatesse. Son potentiel d’appauvrissement de la couche d’ozone (ODP) est nul et son potentiel de réchauffement global (PRG) est faible. Il est généralement utilisé pour le nettoyage de pièces de précision, y compris : les modules de caméra CMOS, les appareils d’OIS (stabilisation optique de l’image), le VCM (moteur à bobine vocale), les capteurs optiques et les capteurs électroniques, ainsi que le retrait d’empreintes digitales présentes sur des composants critiques.